Com relação às características dos métodos e tecno...

Q: Com relação às características dos métodos e tecnologias de salas limpas, assinale a alternativa correta a respeito das fontes de contaminação interna na indústria de semicondutores.

A) Havendo bons processos, a geração de partículas derivadas das pessoas (partículas de pele, espirro, tosse etc) não serão mais consideradas potencial contaminante. | B) A proibição do uso de cosméticos em uma sala limpa é um exagero e não representa potencial contaminante. | C) Somente as partículas de origem residual do atrito de materiais são consideradas contaminação interna. | D) As pessoas que trabalham na fabricação dos wafers são os principais vetores de contaminação. | E) Conceitualmente, o desgaste dos materiais não representa potencial contaminação.

457941201346425

Ano: 2016Banca: IADESOrganização: MCTIDisciplina: Engenharia de Produção e OtimizaçãoTemas: Gestão da Qualidade | Gestão da Produção

Com relação às características dos métodos e tecnologias de salas limpas, assinale a alternativa correta a respeito das fontes de contaminação interna na indústria de semicondutores.

Gabarito comentado

Anotações

Marcar para revisão

Com relação às características dos métodos e tecnologias de salas l...

Com relação às características dos métodos e tecnologias de salas l...